天津市瑞明威化工(圖)-分散劑售價-分散劑 ：

出現“返粗”現象可選用分散劑

由于如何選擇適宜分散劑會直接影響到砂磨機超細研磨效果，因此，一直備受大家關注。大家都知道使用砂磨機等設備研磨會出現一些常見的現象，沉淀，氣泡，反粗等現象，今天就來說說使用設備砂磨機研磨分散后如何出現，以及為何要用分散劑解決。

在砂磨機中，物料顆粒的粉碎首先主要是依靠高速運動的磨珠間的碰撞、擠壓、剪切實現物料顆粒的粒度變小，比表面積增大。在粒度逐漸細化的過程中，顆粒在范德華力、雙電層靜電作用等影響下會重新團聚。因此，可以認為顆粒超細粉碎到一定程度后，伴隨著一系列顆粒微觀上理化特性的質變，就會出現一個“粉碎?團聚”的可逆過程。當這正反兩個過程的速度相等時，便達到了粉碎過程中的動態平衡，則顆粒尺寸達到極限值。此時，進一步延長粉碎時間是徒勞的。因為這時的機械力已不足以解聚團聚體使顆粒進一步破碎，只能用于維持粉碎平衡，并有可能造成更多小顆粒團聚體，于是，所謂的“逆研磨”、“返粗”現象就會出現。從某種程度上說，分散劑的恰當選擇是解決“逆研磨”、“返粗”現象的行之有效的途徑。分散劑可以影響顆粒之間的范德華力、雙電層靜電力、溶劑化膜和吸附層的空間斥力諸作用。

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視頻作者：天津市瑞明威化工有限公司

碳酸鈣研磨分散劑的種類 常用的碳酸鈣研磨分散劑有三大類。無機類（如六偏磷酸鈉、二硅酸鈉等）、有機類(如苯磺酸鹽等)、高分子類(聚羧酸鹽、聚衍生物)。目前在碳酸鈣的超細研磨中普遍采用的是高分子類分散劑。 無機類分散劑。無機類分散劑的作用機理是通過增加碳酸鈣顆粒表面的電荷，增強表面的靜電斥力，使粒子在熱運動、布朗運動過程中難以進一步靠攏而絮聚。部分無機類分散劑還能夠增強顆粒表面的潤濕程度。主要有聚磷酸鹽（如六偏磷酸鈉）、硅酸鹽、碳酸鹽等，其中以六偏硫酸鈉為常用。但需要注意的是無機分散劑會對導電率、介電常數帶來不良影響，也因此使得無機類分散劑的應用尤其是在超細研磨中受到極大的限制。 有機類小分子分散劑。有機類小分子分散劑主要為各種表面活性劑，可分為3類：陰離子型、非離子型和陽離子型。離子型的分散劑主要通過表面電荷的靜電斥力作用，非離子型分散劑主要通過空間位阻作用來改善懸浮液的穩定性能，另外此類分散劑在改善碳酸鈣顆粒表面潤濕性能方面也有很大的作用。常用的有機小分子分散劑主要有聚醚或烷芳基的硫酸鹽、氯化物、酚聚乙烯醚等。

做氧化硅拋光液需要的分散劑

氧化硅拋光液是以高純度硅粉為原料，經特殊工藝生產的一種高純度低金屬離子型拋光產品。那么制作氧化硅拋光液中需要用到怎么樣的分散劑來做水基下達到100納米做懸浮液。

拋光液是一種不含任何硫、磷、氯添加劑的水溶性拋光劑，拋光液具有良好的去油污，防銹，清洗和增光性能，并能使金屬制品顯露出真實的金屬光澤。氧化硅拋光液產品去除率高，表面質量好，沒有橘皮、劃傷、塌邊、凹坑、麻點、發蒙等不良現象。廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光。如：硅片、化合物晶體、精密光學器件、寶石等的拋光加工。

氧化硅拋光液需要用到的分散劑廠家建議用HH2054分散劑，用在水基100納米中，做成懸浮液。然后制備氧化硅拋光液。有效解決問題，詳情資料請找我們為您詳細講解，同時支持同步測試實驗環節。